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石英坩埚

石英(ying)坩埚,具有高(gao)纯(chun)度(du)、耐温性(xing)强、尺(chi)寸大(da)精度(du)高(gao)、保温性(xing)好(hao)、节约能源、质(zhi)量稳定等(deng)优点(dian),应用越(yue)来(lai)越(yue)广泛。目前(qian),国内石英(ying)坩埚生(sheng)(sheng)产(chan)企业生(sheng)(sheng)产(chan)中使用的生(sheng)(sheng)产(chan)设备(bei)及(ji)工艺(yi)技术全部源于(yu)上世纪70年代(dai)初锦州155厂从日(ri)本(ben)引进的生(sheng)(sheng)产(chan)设备(bei)及(ji)工艺(yi)技术,该(gai)项技术设备(bei)自(zi)动化程度(du)不高(gao),整个生(sheng)(sheng)产(chan)过程中更多的依靠人工来(lai)实(shi)现,现在国内新(xin)上的坩埚生(sheng)(sheng)产(chan)设备(bei)都(dou)已经往(wang)自(zi)动化发展。

  • 产品介绍

石英(ying)坩埚,具有(you)高(gao)纯度、耐(nai)温性强、尺(chi)寸大精度高(gao)、保温性好、节约能源(yuan)、质量稳定等优点,应用越(yue)来(lai)越(yue)广泛(fan)。目前,国内(nei)石英(ying)坩埚生产企业生产中使用的生产设(she)(she)备及工(gong)(gong)艺(yi)技术全(quan)部(bu)源(yuan)于(yu)上世纪(ji)70年代初锦州155厂从日本(ben)引(yin)进的生产设(she)(she)备及工(gong)(gong)艺(yi)技术,该项技术设(she)(she)备自(zi)动(dong)化(hua)(hua)程(cheng)度不高(gao),整个生产过程(cheng)中更多(duo)的依靠(kao)人工(gong)(gong)来(lai)实现,现在(zai)国内(nei)新(xin)上的坩埚生产设(she)(she)备都(dou)已经往(wang)自(zi)动(dong)化(hua)(hua)发展(zhan)。

1、石英(ying)坩(gan)埚可(ke)在1450度(du)以下(xia)使用(yong),分(fen)透(tou)(tou)(tou)(tou)明和不透(tou)(tou)(tou)(tou)明两种。用(yong)电弧法制(zhi)的半透(tou)(tou)(tou)(tou)明石英(ying)坩(gan)埚是拉制(zhi)大直径单晶硅,发(fa)展大规模集成电路必不可(ke)少的基(ji)础(chu)材料(liao)。当今,世界半导体(ti)工业发(fa)达(da)国家已用(yong)此坩(gan)埚取代了小的透(tou)(tou)(tou)(tou)明石英(ying)坩(gan)埚。他具有高纯度(du)、耐(nai)温性(xing)(xing)强(qiang)、尺(chi)寸大精度(du)高、保(bao)温性(xing)(xing)好(hao)、节约能源、质(zhi)量稳定等优点。

2、不能和HF接(jie)触(chu),高(gao)温时,极(ji)易和苛性碱及碱金属的(de)碳酸(suan)盐作用(yong)。

3、石(shi)英坩埚适于(yu)用K2S2O7,KHSO4作(zuo)熔剂熔融样品和(he)用Na2S207(先在212度烘干)作(zuo)熔剂处理样品。

4、石(shi)英质脆,易(yi)破(po),使用时要注意。

目(mu)前坩(gan)埚(guo)生(sheng)产涂(tu)层技术已被大多数厂家使(shi)用就是在坩(gan)埚(guo)表面涂(tu)上一层二氧化钡溶液使(shi)其(qi)形成(cheng)致(zhi)密层,其(qi)致(zhi)密层能阻止单晶硅高温拉制过程中硅与石英(ying)坩(gan)埚(guo)反应提高成(cheng)晶率。

石英(ying)坩埚的使用(yong)及维护

1、石英坩埚主要化学成分是二氧(yang)化硅,除(chu)氢(qing)氟(fu)酸外不(bu)与其(qi)它(ta)酸作用,易与苛性碱及碱金属碳酸盐作用。

2、石(shi)英坩埚对热(re)的稳定性很好,可直接(jie)放在火(huo)焰上加热(re)

3、石英坩(gan)埚和玻璃器皿一样,容(rong)易破碎,使用(yong)时要特别小心

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